我公司采用的現(xiàn)代超純水制造工業(yè)純水設(shè)備典型工藝流程為： 
1: 預處理－反滲透－純化水箱－離子交換器－紫外燈-純水泵－用水點 
2: 預處理－一級反滲透－二級反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點
3: 預處理－反滲透－中間水箱－中間水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點
4: 預處理→紫外線殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點
水質(zhì)符合美國ASTM標準，電子部超純水水質(zhì)標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級）

設(shè)計原則： 
☆ 品質(zhì)---依照客戶生產(chǎn)所需超純水的水質(zhì)要求及生產(chǎn)特點，并考慮水源的水質(zhì)（需客戶提供水質(zhì)分析報告或源水樣品）。
☆ 可擴充性—系統(tǒng)分段設(shè)計規(guī)劃，考慮就近用水和生產(chǎn)安全需要，可依照生產(chǎn)線需求隨時擴充產(chǎn)能，客戶可分階段投資。

電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗電子管生產(chǎn)　電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)　玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水液晶顯示器的生產(chǎn)　屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片。

二、典型工藝流程

預處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(最新工藝)

預處理－一級反滲透－加藥機（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥17MΩ.CM） (最新工藝)    

預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(最新工藝)

處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)